Seit März 2000 un­ter­hält der Kan­ton Zug ge­mein­sam mit den Zen­tral­schwei­zer Kan­to­nen Schwyz, Uri, Nid­wal­den und Ob­wal­den ein Wohn­ate­lier in New York. Kunst­schaf­fen­de aller Spar­ten aus die­sen Kan­to­nen kön­nen sich um einen vier­mo­na­ti­gen Auf­ent­halt be­wer­ben. Die­ser be­inhal­tet die un­ent­gelt­li­che Be­nüt­zung des Wohn­ate­liers, einen Reise-​, Neben-​  sowie einen Le­bens­kos­ten­zu­schuss.

Wie jedes Jahr kön­nen sich Kunst­schaf­fen­de um einen Auf­ent­halt für das Wohn­ate­lier in New York be­wer­ben. Für den vier­mo­na­ti­gen Auf­ent­halt im Ate­lier in New York kön­nen sich im 2022 Künst­le­rin­nen und Künst­ler aus den Kan­to­nen Schwyz und Zug be­wer­ben. Die Aus­schrei­bung der Ate­liers gilt für pro­fes­sio­nel­le Kunst­schaf­fen­de aller Spar­ten, die seit min­des­tens zwei Jah­ren im oben er­wähn­ten Kan­ton woh­nen oder zu einem frü­he­ren Zeit­punkt min­des­tens zehn Jahre durch­ge­hend dort Wohn­sitz hat­ten.

Auf­grund der Corona-​Situation wurde der Ate­lier­platz 2021 des Kan­tons Ob­wal­den auf das Jahr 2024 ver­scho­ben. Kunst­schaf­fen­de aus die­sem Kan­ton kön­nen sich erst wie­der im Au­gust 2025 für das Jahr 2027 be­wer­ben.

Das Be­wer­bungs­fens­ter für die Ate­lier­sti­pen­di­en 2024 ist ge­schlos­sen. Die Aus­schrei­bung für das Jahr 2025 er­folgt ab Ende Au­gust 2023.

Film­por­traits Zuger Ate­lier­sti­pen­dia­tin­nen und -​stipendiaten 2000 bis 2019

Alle Film­por­traits des Künst­lers und Kunst­ver­mitt­lers Roger Amg­werd über die Zuger Ate­lier­sti­pen­dia­tin­nen und -​stipendiaten in New York fin­den Sie hier.

Sti­pen­dia­tin­nen und Sti­pen­dia­ten von 2000 bis 2017:

Ul­rich Zim­mer­mann, Andi Gut, Ro­ber­to Bos­sard, Ste­fan Buri, Elmar Frey, Clau­dia Ca­vie­zel, Lars Kor­detz­ky, Hans Hass­ler, Marie - Eve Jet­zer, Eve­li­ne Suter, Mar­kus Uhr, Kris­ti­na Brusa, Pas­ca­le Birch­ler, Do­ri­an Iten, Mi­cha­el El­se­ner, Do­mi­nik Geh­ring, Mi­chel Gil­gen, Karin Ar­nold, Lukas Hoff­mann, Pa­tri­cia Ja­co­mel­la, Laura Livers und Pir­min Bee­ler.